十年曝光

今天，摄影已经成为当代艺术和设计实践中无可替代的重要语言，特别是当数码时代降临之后，影像正在以前所未有的规模和速度记录、揭示和改变着我们每天生活中的现实。中央美术学院，作为中国首屈一指的艺术教育机构，早在上个世纪末就将视野拓展到了当代设计教育领域，以及针对以摄影影像为代表的新型视觉媒介的艺术教育探索。成立于2000年的摄影专业，历经十年的努力，凭借前沿的艺术视野和教育理念，先进科学的学术构架，中央美术学院的影像教育取得了令世人瞩目的教育成果，逐渐成为国内影像教育的崭新标尺，并且正在跻身于国际一流的影像教育机构之行列。
以《十年曝光》为主题的大型当代影像研究计划是中央美术学院基于对十年来的影像艺术教育实践历程的全面回顾梳理，在当代艺术、视觉文化和摄影教育的语境下，探讨处在中国社会、文化和意识形态剧变中的当代影像的意义。
此次大型研究和展示计划由中央美术学院美术馆、中央美术学院设计学院联合主办。展览部分由三个学术展览——“没有记忆的时代：当代影像在中国”、“我变故我在：中央美术学院新人展”、和“摄影教学十年历程文献展”共同组成。大展将于2010年11月19日在中央美术学院美术馆隆重开幕，届时将展出中国当代影像界包括重要艺术家和新锐在内共30余位的百余件新近影像与装置作品；展览同时以文献、图片、录像、实物、手记等不同媒介对中央美院的影像教育历程进行多元展示和探讨。同期还将推出由姜节泓编写的学术研究书著《十年曝光》，计360页、七万余字并200多彩图。展览和书籍出版不仅仅为了吸引包括摄影师、艺术家、艺术教育者和学者在内的专业人士来参与探讨，同时也面向更广阔的受众群，特别是在艺术、设计和视觉文化领域中学习的学生。此研究计划受伯明翰艺术与设计学院中国视觉艺术中心支持，并与顶级品牌、生产商、媒体和出版机构强强联手，共同完成对研究成果的立体宣传和推广。